近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米压印光刻（NIL）以及中国通过激光驱动等离子体（LDP）技术挑战ASML的新闻，并在业内再次引发了光刻机之争。这两种新技术的涌现引起了人们对于传统ASML EUV技术的挑战和讨论。本文将从日本NIL和中国LDP这两种新技术入手，分析它们对ASML EUV的颠覆和挑战，探讨谁能真正撼动ASML的地位。

日本NIL技术的崛起

纳米压印光刻（NIL）作为一种新型的光刻技术，近年来在日本逐渐崭露头角。NIL技术采用纳米级别的模板对硅片进行直接压印，省略了传统光刻中的光刻胶以及显影等步骤，具有成本低、效率高、分辨率高等优势。据报道，日本的一家公司已经在生产线上成功应用了NIL技术，并且取得了可喜的效果。

中国LDP技术的创新

与此同时，中国通过激光驱动等离子体（LDP）技术也开始崭露头角。LDP技术利用激光来产生等离子体，实现对硅片的光刻，相比传统的光刻技术，LDP技术有着更高的分辨率和更快的加工速度。中国的一些科研机构和高科技企业正在积极研发和应用LDP技术，为中国光刻行业的发展带来了新的机遇和挑战。

NIL与LDP对ASML的挑战

ASML作为目前光刻机行业的龙头企业，其EUV技术一直处于行业领先地位。然而，日本的NIL技术和中国的LDP技术的崛起给ASML带来了新的挑战。NIL技术和LDP技术在成本、效率和分辨率等方面都具有优势，可能会对ASML的市场份额造成一定的冲击。同时，日本和中国在光刻技术方面的投入和创新也不容忽视，未来他们有可能成为ASML的有力竞争对手。

结语

综上所述，日本的NIL技术和中国的LDP技术的涌现，给光刻机行业带来了新的看点和变化。尽管ASML目前仍然处于行业领先地位，但随着日本和中国技术的不断进步和创新，ASML可能面临着来自新技术的挑战。未来，谁能真正撼动ASML的地位，还有待市场和技术的进一步竞争和验证。

以上内容参考自36Kr的报道：36Kr。